辉光放电无定形硅氢薄膜光隙计算的一个简化分析法

上传者: 38545117 | 上传时间: 2021-02-25 17:05:20 | 文件大小: 5.6MB | 文件类型: PDF
在计入相干效应和考虑衬底影响的基础上,提出一种非破坏性的简易分析法。利用此法,由非晶硅试样的光谱透射曲线可确定膜层的厚度、折射率及吸收系数。作为例子,我们计算了α-Si:H及α-SiC:H薄膜的光隙。

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